Фотомаска — Вики HillMine

Фотомаска (англ. Photomask) — фотомаска, трафарет для печати микросхем: пустая заготовка гравируется лазером под конкретный чип и уходит в сборочный конвейер. Тридцать с лишним масок закрывают всю линейку чипов GregTech — от простой логики до квантовых процессоров и кубитов.⁠^[1]

Пустая маска первого уровня собирается в автоклаве из железо-кварцевой пластины — это 30 720 EU/t и больше двух минут на штуку; заготовки старших уровней требуют своих прекурсоров.⁠^[1]

$\text{[math]}$

Фотомаска

Lanthanides

Мод: Lanthanides
ID в игре: gtnhlanth:item.photomask.blank1

Как это работает #how

Цепочка фотолитографии: подложка-прекурсор → маска-субстрат → обработанная маска → пустая маска (T1, T2, T3 и кристаллическая) → гравировка лазерным гравировщиком под конкретный чип. Гравировок больше двухсот: маска есть под каждый чип, память, NAND и SoC, включая подготовленные и квантовые варианты.⁠^[1]

Ошибка гравировки не редкость: маска «ОШИБКА» — приз того, что рецепт проверяли на глаз. Перегравировать маску нельзя — только новую заготовку.⁠^[1]

Решётка из мю-металла и капиллярный обменник — вспомогательные детали цепочки: первая экранирует пластину, второй дозирует реактивы.⁠^[1]

Маски и заготовки #variants

Маски под все чипы и стадии заготовок (полный список с составами — в рецептах ниже и в лазерном гравировщике):

Все 42 варианта42

$\text{[math]}$
Фотомаска
gtnhlanth:item.photomask.blank1
Подходит для VISIBLE-го сегмента электромагнитного спектра и ниже
$\text{[math]}$
Маска (продвинутый кристаллический чип)
gtnhlanth:item.photomask.acc
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (продвинутый SoC)
gtnhlanth:item.photomask.asoc
Макс. использований: 120
$\text{[math]}$
Маска (пустая T2)
gtnhlanth:item.photomask.blank2
Подходит для UV-го сегмента электромагнитного спектра и ниже
$\text{[math]}$
Маска (пустая T3)
gtnhlanth:item.photomask.blank3
Подходит для X-RAY-го сегмента электромагнитного спектра и ниже
$\text{[math]}$
Маска (кристалл)
gtnhlanth:item.photomask.cblank
Подходит для X-RAY-го сегмента электромагнитного спектра и ниже
$\text{[math]}$
Маска (кристаллический центральный процессор)
gtnhlanth:item.photomask.ccpu
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (центральный процессор)
gtnhlanth:item.photomask.cpu
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (кристаллический SoC)
gtnhlanth:item.photomask.csoc
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (гравированный лапотронный чип)
gtnhlanth:item.photomask.elc
Макс. использований: 120
◎
Маска (ОШИБКА)
gtnhlanth:item.photomask.error
—
$\text{[math]}$
Маска (FPIC)
gtnhlanth:item.photomask.fpic
Макс. использований: 50
$\text{[math]}$
Маска (мощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.hpic
Макс. использований: 80
$\text{[math]}$
Маска (интегральная логическая схема)
gtnhlanth:item.photomask.ilc
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (живой кристаллический чип)
gtnhlanth:item.photomask.lcc
Макс. использований: 75
$\text{[math]}$
Маска (маломощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.lpic
Макс. использований: 150
$\text{[math]}$
Маска (NAND)
gtnhlanth:item.photomask.nand
Макс. использований: 200
$\text{[math]}$
Маска (нанопроцессор)
gtnhlanth:item.photomask.ncpu
Макс. использований: 60
$\text{[math]}$
Маска (NOR)
gtnhlanth:item.photomask.nor
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (наномощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.npic
Макс. использований: 70
$\text{[math]}$
Маска (силовая ИС)
gtnhlanth:item.photomask.pic
Макс. использований: 100
$\text{[math]}$
Маска (PPIC)
gtnhlanth:item.photomask.ppic
Макс. использований: 50
$\text{[math]}$
Маска (подготовленный центральный процессор)
gtnhlanth:item.photomask.prcpu
—
$\text{[math]}$
Маска (подготовленная мощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.prhpic
—
$\text{[math]}$
Маска (подготовленный нанопроцессор)
gtnhlanth:item.photomask.prncpu
—
$\text{[math]}$
Маска (подготовленная наномощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.prnpic
—
$\text{[math]}$
Маска (подготовленная силовая ИС)
gtnhlanth:item.photomask.prpic
—
$\text{[math]}$
Маска (подготовленная квантовая силовая ИС)
gtnhlanth:item.photomask.prqpic
—
$\text{[math]}$
Маска (кубит)
gtnhlanth:item.photomask.qbit
Макс. использований: 50
$\text{[math]}$
Маска (QPIC)
gtnhlanth:item.photomask.qpic
Макс. использований: 50
$\text{[math]}$
Маска (оперативная память)
gtnhlanth:item.photomask.ram
Макс. использований: 200
$\text{[math]}$
Маска (SoC)
gtnhlanth:item.photomask.soc
Макс. использований: 150
$\text{[math]}$
Маска (простой SoC)
gtnhlanth:item.photomask.ssoc
Макс. использований: 150
$\text{[math]}$
Маска (сверхвысокомощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.uhpic
Макс. использований: 60
$\text{[math]}$
Маска (сверхмаломощная ИС)
gtnhlanth:item.photomask.ulpic
Макс. использований: 200
$\text{[math]}$
Маска-субстрат
gtnhlanth:item.mask_substrate
—
$\text{[math]}$
Обработанная маска-субстрат
gtnhlanth:item.masked_mask_substrate
—
$\text{[math]}$
Прекурсор подложки
gtnhlanth:item.substrate_precursor
—
$\text{[math]}$
Капиллярный обменник
gtnhlanth:item.capillary_exchange
—
$\text{[math]}$
Железо-кварцевая пластина
gtnhlanth:item.iron_quartz_plate
—
$\text{[math]}$
Решётка из мю-металла
gtnhlanth:item.mm_lattice
—
$\text{[math]}$
Гравированная маска
gtnhlanth:item.etched_mask1
—